鼎龙股份:CMP抛光液的上游材料研磨粒子可分为超纯硅溶胶、水玻璃硅溶胶、氧化铝、氧化铈四大类 |
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作者:佚名 文章来源:本站原创 点击数: 更新时间:2023/8/8 4:26:53 | 【字体:小 大】 |
张火丁近况同花顺300033)金融研究中心9月23日讯,有投资者向鼎龙股份300054)提问, 您好,公司抛光液研磨粒子主要是什么材料的?现在进展如何了?
公司回答表示,感谢您的关注。CMP抛光液的上游材料研磨粒子可分为:超纯硅溶胶、水玻璃硅溶胶、氧化铝、氧化铈四大类。公司目前实现了超纯硅溶胶,水玻璃硅溶胶、氧化铝三类研磨粒子的自主制备,氧化铈研磨粒子的开发也在按计划推进中,同时公司在仙桃建设研磨粒子的大规模量产线,将保障公司仙桃园区CMP抛光液生产的原料供应。
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